钼靶材 钼溅射靶材 高纯靶材
钼靶材是一种工业材料,广泛用于导电玻璃、STN/TN/TFT-LCD、光学玻璃、离子镀膜等行业,适用所有平面镀膜及旋转镀膜系统。常规上靶材可分为平面显示靶材、太阳能光伏靶材、磁记录靶材、半导体关联靶材。溅射是制备薄膜材料的主要技术之一,它利用离子源产生的离子,在真空中经过加速聚集,而形成高速度能的离子束流,轰击固体表面,离子和固体表面原子发生动能交换,使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面,被轰击的固体即为溅射靶材。
钼靶密度10.1g/cm3
钼靶熔/沸点:2610℃/5560℃。
钼靶材纯度:99.95%、99.99%
规格:圆形靶,板靶,旋转靶 (可根据客户需求以及图纸定制生产)
钼靶材分类:磁控溅射镀膜靶材、薄膜电阻靶材、导电膜靶材。